95％Ar+5％H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响

• 作者: 刘静 吴隽 姚亚刚 姜思宇 熊芬 祝柏林 耿仁杰 郭才胜
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Ag/MoS2 Ag/BN/MoS2 连续逐层沉积 95％Ar+5％H2退火
• 年，卷（期）: 2019,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 2186-2193
• 页数: 8页
• 分类号: O484
• 字数: 3659字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2019.12.004

摘要

采用射频(RF)磁控溅射在室温下连续逐层沉积,然后在95％Ar+5％H2混合气氛中进行500 ℃低温退火制备了Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜,采用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对其结构、组成和表面形貌进行了研究.结果表明:所制备的纳米膜均匀连续,界面紧密巨清洁.95％Ar+5％H2混合气氛中退火能强烈影响顶部MoS2层的形貌并有效去除MoS2中的杂质氧改善其结晶性、稳定性和结构完整性;顶部MoS2层在沉积态时呈细小颗粒状,退火后呈片层状和颗粒状混合形态,特别是引入BN 层后促进了其向更大更薄的片状转变,巨MoS2薄膜由块状变成类层状结构.另外,电性能表征显示Ag/MoS2具有良好的欧姆接触巨电阻率低,引入BN层使得Ag与BN以及BN与MoS2的界面处产生肖特基势垒从而使Ag/BN/MoS2具有整流特性.