温室痕量灌溉条件下施肥量与追肥模式对黄瓜产量和品质的影响

• 作者: 杨培岭 王枭 黄令淼
• 来源期刊: 灌溉排水学报
• 学科: 农学
• 关键词: 日光温室 黄瓜 痕量灌溉 施肥制度
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 页码范围: 36-41
• 页数: 6页
• 分类号: S216.2|S51
• 字数: 6619字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13522/j.cnki.ggps.2017.0394

摘要

[目的]探究痕量灌溉条件下适合温室黄瓜的施肥规律.[方法]采用对照试验方法,设3种总施肥量(高肥、中肥、低肥)和3种底肥与追肥比(K=0、1/3、1),共9个处理,分析了温室黄瓜产量和品质的变化.[结果]①在总肥量一定时,K=1/3有利于黄瓜增产;而K值一定时,高肥处理产量最高,中肥处理产量较低于高肥处理,但差距不大.②K值一定时,随着总肥量的增加,果实内可溶性糖和Vc量呈现先增后减的趋势,硝酸盐量一直增加,而可溶性固形物量在施中肥后增加趋势减缓;果实内可溶性糖、可溶性固形物和还原型Vc量在施中肥(T5)时基本达到峰值,且显著高于高肥(T8)处理;果实内硝酸盐量在施高肥(T8)时达到峰值;K=1/3时果实内可溶性糖、可溶性固形物和还原型Vc、硝酸盐积累量均高于K=1的.[结论]综合产量与品质各指标,施中肥且K=1/3为更适合痕量灌溉条件下温室黄瓜的施肥模式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨培岭		189	3877	34.0	53.0
2	黄令淼		4	19	3.0	4.0
3	王枭		4	8	2.0	2.0