磁场作用下硅晶体生长的应用研究现状

• 作者: 张发云 李云明 熊含梦 章娟 罗玉峰 胡云 饶森林
• 来源期刊: 铸造技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁场 晶体硅 固液界面 熔体流动
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 今日铸造
• 页码范围: 229-234
• 页数: 6页
• 分类号: TN304
• 语种: 中文
• DOI: 10.16410/j.issn1000-8365.2019.02.024

摘要

针对静态磁场和非静态磁场在硅晶体生长中的应用研究现状,综述了磁场对硅晶体生长过程中熔体流动、固液界面形态、杂质含量及分布的影响,重点对比分析了静态磁场与非静态磁场的特点.总结了该应用当前存在的问题,并对未来的技术发展进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗玉峰		24	57	4.0	6.0
2	张发云		26	105	5.0	9.0
3	饶森林		5	11	2.0	3.0
4	章娟		2	0	0.0	0.0
5	胡云		5	11	2.0	3.0
6	熊含梦		2	0	0.0	0.0
7	李云明		2	1	1.0	1.0