径迹纳米孔高分子膜的制备和表征

• 作者: 刘峰 汪茂 王宇钢 王雪
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 核径迹 纳米孔 高分子膜 选择性离子输运
• 年，卷（期）: 2019,（10）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 2120-2128
• 页数: 9页
• 分类号: TL99
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2019.53.10.2120

摘要

载能重离子辐照高分子膜形成的离子潜径迹,经后续处理可制备出离子径迹纳米孔高分子膜.本文介绍了传统的离子径迹蚀刻法与最近发展的离子径迹紫外辐照方法制备径迹纳米孔高分子膜的过程及其纳米孔膜孔径的表征.离子径迹紫外辐照方法舍弃了传统离子径迹蚀刻法的化学蚀刻过程,所制备的径迹纳米孔高分子膜的孔密度高,孔道尺寸为纳米甚至亚纳米尺度,在海水淡化、离子分离等领域具有广阔的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘峰	北京大学核物理与核技术国家重点实验室	75	456	12.0	18.0
2	王宇钢	北京大学核物理与核技术国家重点实验室	28	142	7.0	11.0
3	王雪	北京大学核物理与核技术国家重点实验室	31	172	8.0	12.0
4	汪茂	北京大学核物理与核技术国家重点实验室	2	0	0.0	0.0