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摘要:
An ultra-high voltage 4H-silicon carbide (SiC) gate turn-off (GTO) thyristor for low switching time is proposed and analyzed by numerical simulation.It features a double epitaxial p-base in which an extra electrical field is induced to enhance the transportation of the electrons in the thin p-base and reduce recombination.As a result,the turn-on characteristics are improved.What is more,to obtain a low turn-off loss,an alternating p+/n+ region formed in the backside acts as the anode in the GTO thyristor.Consequently,another path formed by the reverse-biased n+-p junction accelerates the fast removal of excess electrons during turn-off.This work demonstrates that the turn-on time and turn-off time of the new structure are reduced to 37 ns and 783.1 ns,respectively,under a bus voltage of 8000 V and load current of 100 A/cm2.
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文献信息
篇名 Ultra-high voltage 4H-SiC gate turn-off thyristor for low switching time
来源期刊 中国物理B(英文版) 学科
关键词 4H-SiC gate turn-off (GTO) thyristor turn-on turn-off
年,卷(期) 2019,(12) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 346-354
页数 9页 分类号
字数 语种 英文
DOI 10.1088/1674-1056/ab4e89
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研究主题发展历程
节点文献
4H-SiC
gate turn-off (GTO) thyristor
turn-on
turn-off
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
中国物理B(英文版)
月刊
1674-1056
11-5639/O4
北京市中关村中国科学院物理研究所内
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出版文献量(篇)
17050
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