纳米YSZ热障涂层中TGOs层的生长行为

• 作者: 刘艳玲 唐健江 王俊文 白宇 贾华
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 热障涂层 高温氧化 TGOs生长机制
• 年，卷（期）: 2019,（10）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 173-176
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 2054字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2019.10.036

摘要

通过对热障涂层在高温静态氧化过程中TGOs层形貌的观察,研究了Al2 O3层对TGOs层生长过程的作用机制.结果表明:致密的Al2 O3层能有效降低TGOs层的生长速率;当Al2 O3层消失后,TGOs层的生长速率由0.61μm·h-0.5迅速增大至1.29μm·h-0.5.氧化过程中,在Al2 O3层与粘结层界面上生长的混合氧化物会逐渐向上"吞噬"原有的Al2 O3层,并导致Al2 O3层的减薄直至最终消失.Al2 O3层的稳定性对TGOs的生长具有显著的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐健江	西安航空学院材料工程学院	15	4	1.0	1.0
2	白宇	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	21	93	4.0	9.0
3	王俊文	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	2	1	1.0	1.0
4	刘艳玲		6	4	1.0	2.0
5	贾华		6	7	2.0	2.0