双层石墨烯的化学气相沉积制备研究综述

• 作者: 张学薇 王宏涛 赵沛 邹振兴
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 双层石墨烯 化学气相沉积 生长机理 拉曼光谱 催化剂 堆垛形式
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 专题——石墨烯界面处理技术及其应用
• 页码范围: 前插1-前插2,1-19,97
• 页数: 21页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 6907字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.06.001

摘要

石墨烯具有很多优异的性质,是非常理想的硅晶体替代材料,有可能彻底改变现在人们的生活,引发新一轮的科技革命.但是单层石墨烯是一种零带隙的半金属,在半导体电子器件方面受到很大局限性.AB堆垛双层石墨烯的带隙可由外部垂直电场打开,既可用于半导体电子器件领域,又可以大大降低薄膜电阻,用于透明导电薄膜.尽管石墨烯制备方法很多,但受限于成本、质量、规模化等,化学气相沉积法是制备大面积、高质量双层石墨烯最主要的手段.综述了利用化学气相沉积法制备双层石墨烯的一系列工作,首先介绍单双层石墨烯的生长机理,主要根据催化剂类型对镍、铜、铜镍合金上石墨烯形核和生长作出解释;然后从碳源、生长氛围、催化剂、基底结构等对双层石墨烯的均匀性、晶畴尺寸和堆垛形式等方面进行分析;最后,总结以上化学气相沉积法制备双层石墨烯的工作,并对该领域的发展进行展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵沛	浙江大学应用力学研究所	2	13	1.0	2.0
2	王宏涛	浙江大学交叉力学中心	4	5	1.0	2.0
3	张学薇	浙江大学应用力学研究所	1	0	0.0	0.0
4	邹振兴	浙江大学交叉力学中心	1	0	0.0	0.0