脉冲电流密度对磁控溅射制备TiN薄膜组织与性能的影响

• 作者: 张晓晖 李建宇
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: TiN薄膜 磁控溅射 脉冲电场 电流强度 力学性能
• 年，卷（期）: 2019,（7）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 112-115
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

为提高TiN薄膜的沉积质量,采用双脉冲磁控溅射方法制备了TiN薄膜,通过对薄膜的形貌、结构和力学性能的分析,探讨了不同脉冲电流密度制备的TiN薄膜的组织形态及其力学特性.结果 表明:不同脉冲电流密度下制备的TiN薄膜试样的颗粒尺寸都在200 nm以下,脉冲电流密度上升到0.40 A/cm2时,锥形颗粒基本都转变成了圆胞形结构,沉积速率也表现出减小的变化;当脉冲电流密度为0.80 A/cm2时,制得的TiN薄膜各项力学特性及其抗弹性变形能力都达到最佳状态;脉冲电流密度上升后,会使薄膜致密度随之上升,当形成的薄膜组织具有更大的致密度时,可以使其力学强度得到提升.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张晓晖	包头轻工职业技术学院能源工程学院	22	11	2.0	2.0
2	李建宇		1	0	0.0	0.0