采用多靶磁控共溅射技术的单靶功率可调特点,在Zr-4合金基底上,通过调节O 2流量制备出(Al-CrMoNbZr)1-x-y Ny O x高熵合金涂层.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、纳米压痕仪(nanoindentation)以及电化学工作站等对不同O 2流量下制备的(AlCrMoNbZr)1-x-y Ny O x高熵合金涂层,进行了微观结构、形貌、纳米硬度以及耐腐蚀性能进行了表征与测试.结果表明,在O 2氛围作用下,涂层相结构由fcc完全转变为bcc结构;随O 2流量由0 mL/min增至15 mL/min,涂层纳米硬度由22 GPa快速降低至7 GPa;O 2流量为10 mL/min的(AlCrMoNbZr)1-x-y Ny O x高熵合金涂层表现出优异的耐腐蚀性能,其腐蚀电流密度较O 2流量为0 mL/min的(AlCrMoNbZr)N涂层降低约6倍.