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微弧氧化膜封孔技术研究进展
微弧氧化膜封孔技术研究进展
作者:
刘志聃
刘朋
刘群峰
顾珩
黄德群
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
阀金属
等离子体电解氧化
微孔封闭
表面处理
耐蚀性
摘要:
首先对微弧氧化中微孔产生机理进行了阐释,归纳并总结了微弧氧化封孔技术的最新研究进展.在不同封孔机理的基础上,分析了各种封孔方法的优缺点,如水合封孔、有机物封孔、无机物封孔和一些新型封孔工艺.其中自封孔展现出了较大优势,其包括溶液自封孔和外加电场自封孔两种方式.溶液自封孔是通过改变电解液的组成及配方实现自封孔,而外加电场自封孔主要是利用外加电场驱使带电粒子加速向微孔中移动并生成沉淀,使封闭微孔.最后对封孔工艺的发展趋势进行了展望.
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文献信息
篇名
微弧氧化膜封孔技术研究进展
来源期刊
表面技术
学科
工学
关键词
阀金属
等离子体电解氧化
微孔封闭
表面处理
耐蚀性
年,卷(期)
2019,(7)
所属期刊栏目
专题——液相等离子体电解-微弧氧化表面改性技术
研究方向
页码范围
61-71
页数
11页
分类号
TG174.4
字数
7157字
语种
中文
DOI
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.07.006
五维指标
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节点文献
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等离子体电解氧化
微孔封闭
表面处理
耐蚀性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
主办单位:
中国兵器工业第五九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-3660
CN:
50-1083/TG
开本:
16开
出版地:
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
邮发代号:
78-31
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
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