化学气相沉积(CVD)工艺对ZnS力学性能影响的研究

• 作者: 刘晓华 张鹏飞 李冬旭 杨建纯 杨海 牛延星 田智瑞 蒋立朋 郭立 魏乃光 黎建明
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积法(CVD) 晶粒尺寸 喷射结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2019,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1430-1437
• 页数: 8页
• 分类号: TN213
• 字数: 3745字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2019.08.009

摘要

介绍了化学气相沉积法(CVD)制备ZnS过程中,CVD工艺对材料相关力学性能的影响和控制方法.通过X射线衍射分析、扫描电镜和金相显微镜等手段研究了不同工艺下制备的ZnS样品材料的内部结构和缺陷,提出了ZnS生长过程中晶粒尺寸和材料缺陷的控制方法.研究结果表明,设计合理的喷嘴结构,营造稳定的CVD生长环境,提高CVD ZnS毛坯一致性,抑制材料缺陷形成,有助于提升ZnS材料力学相关性能.