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新型光电—Fenton法处理印染废水的研究
新型光电—Fenton法处理印染废水的研究
作者:
兰天翔
吴梦霞
孙梅香
戴捷
汪冬芳
谢远莎
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
印染废水
光催化
电-Fenton
光电-Fenton
紫外可见光谱
三维荧光光谱
摘要:
以TiO2/Ti为阳极,活性炭纤维(ACF)为阴极,建立新型光电-Fenton体系,光催化、电-Fenton对比研究了处理COD及色度的去除率;并采用紫外可见光谱及三维荧光光谱探讨了各处理过程中有机物的变化规律.结果 表明,在pH=4、紫外灯功率15W、电流密度10.0 mA/cm2、曝气量1.5 L/min条件下,处理120 min后,新型光电-Fcnton对印染废水COD的去除率高达92.05%,高于光催化(15.81%)与电-Fenton(70.38%)之和;脱色率达99.51%.与光催化和电-Fenton对比,新型光电-Fenton不仅能在较短的时间内将大部分大分子降解为小分子或直接矿化,且能将难降解的类腐殖酸及类富里酸物质转化为易降解物质,甚至完全降解.
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印染废水
物理处理
化学氧化
高级氧化技术
内容分析
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文献信息
篇名
新型光电—Fenton法处理印染废水的研究
来源期刊
水处理技术
学科
地球科学
关键词
印染废水
光催化
电-Fenton
光电-Fenton
紫外可见光谱
三维荧光光谱
年,卷(期)
2019,(12)
所属期刊栏目
应用技术
研究方向
页码范围
86-90,94
页数
6页
分类号
X791
字数
语种
中文
DOI
10.16796/j.cnki.1000-3770.2019.12.016
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
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戴捷
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吴梦霞
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孙梅香
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谢远莎
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节点文献
印染废水
光催化
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光电-Fenton
紫外可见光谱
三维荧光光谱
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
水处理技术
主办单位:
杭州水处理技术研究开发中心有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-3770
CN:
33-1127/P
开本:
大16开
出版地:
浙江省杭州市文一西路50号
邮发代号:
32-38
创刊时间:
1975
语种:
chi
出版文献量(篇)
6715
总下载数(次)
26
总被引数(次)
82876
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