超临界流体染色及其装备研究(二)

• 作者: 孙发玉 王威强 瞿德浩 胡德栋 袁淑英
• 来源期刊: 印染
• 学科: 工学
• 关键词: 超临界CO2流体 染色 工艺 装置 数值模拟
• 年，卷（期）: 2019,（14）
• 所属期刊栏目: 讲座
• 页码范围: 50-52
• 页数: 3页
• 分类号: TS193.59
• 语种: 中文

摘要

2.2 经轴染色装置 超临界流体经轴染色装置因其结构简单,且具备流体循环的功能,成为研究机构和企业的主要研发对象.自1995年以来,不断有更大容积、更先进控制系统的经轴染色设备出现[7,37-38],如图10～图15所示[7]. 1995年初,德国著名的高压容器生产企业Uhde公司与DTNW合作[11],开发了一台具有染液循环系统的的设备,其染色釜容量为30 L.这台设备于1995年在意大利米兰国际纺织机械展上展出,1996年又在日本大阪举行的国际纺织机械展上展出,受到广泛关注.