大范围XY微位移平台的交叉耦合效应的研究

• 作者: 李晓春 耿冬妮
• 来源期刊: 组合机床与自动化加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 交叉耦合效应 纳米级微定位 柔性机构 增材制造 轨迹误差
• 年，卷（期）: 2019,（7）
• 所属期刊栏目: 设计与研究
• 页码范围: 5-8,12
• 页数: 5页
• 分类号: TH122|TG506
• 字数: 1317字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13462/j.cnki.mmtamt.2019.07.002

摘要

为了减小柔性平台中的阿贝(Abbe)误差和最小化余弦误差.文章介绍了一种通过增材制造(AM)工艺以及立体光刻技术制造,基于聚合物的大范围XY纳米定位器的交叉耦合效应,设计了一种能够在±1.0mm范围运动的XY平台.对于XY和YX轴,AM平台的交叉耦合率分别为3.4％和8.1％,比有限元法估算值1.0％要大得多,这也是造成AM制造公差或材料特性局部不规则的原因.因此AM平台应该定位为反馈控制,以避免交叉耦合效应.实验结果表明,在半径1.0 mm和1Hz圆周运动条件下,均方根径向轨迹误差为3.62mm.因此,AM平台可用于大范围纳米精密应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李晓春	吉林大学工程训练中心	32	244	8.0	14.0
2	耿冬妮	吉林大学工程训练中心	9	8	2.0	2.0