原子层沉积制备Al2O3包覆层对LiNi0.83Co0.12Mn0.05O2性能的影响

• 作者: 伍绍中 周江 崔洪悦 马洪运
• 来源期刊: 电源技术
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积 锂离子电池 LiNi0.83Co0.12Mn0.05O2 电化学性能
• 年，卷（期）: 2019,（10）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 1588-1591,1614
• 页数: 5页
• 分类号: TM912
• 字数: 3094字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-087X.2019.10.003

摘要

研究了原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)技术制备的Al2O3包覆层对高镍三元材料LiNi0.83Co0.12Mn0.05O2性能的影响,主要包括形貌特征、晶胞结构以及电化学性能的影响.通过ALD技术在LiNi0.83Co0.12Mn0.05O2表面包覆厚度约为1.5 nm的Al2O3包覆层后,对高镍三元材料的晶胞结构参数以及体相R-3m层状结构无显著影响.因Al2O3电导率较低,包覆后主要使得电荷转移阻抗升高,从38.87 mΩ升高至45.76 mΩ,从而导致包覆后材料的比容量比空白样品低3 mAh/g,放电倍率性能以及低温性能变差.包覆后材料在25和45℃下采用1C倍率100％ DOD充放电,循环寿命得到明显提升.25℃下,在容量保持率达到90％时循环寿命提升34.45％;45℃下,容量保持率达到80％时,循环寿命提升20.59％,表明ALD技术制备的Al2O3表面保护层有效地提升了活性物质与电解液之间的界面稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周江		7	2	1.0	1.0
2	马洪运		4	1	1.0	1.0
3	崔洪悦		1	0	0.0	0.0
4	伍绍中		5	1	1.0	1.0