氧化石墨烯对VS55冻融过程结晶行为的影响

• 作者: 刘道平 胥义 郭宁 雒苗苗
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 结晶焓 氧化石墨烯 反玻璃化 VS55溶液 显微结构
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 材料化学工程与纳米技术
• 页码范围: 370-378
• 页数: 9页
• 分类号: O63
• 语种: 中文
• DOI: 10.11949/j.issn.0438?1157.20180612

摘要

借助差示扫描量热仪(DSC)和低温显微系统,研究了升降温速率(5、10、25、50和100℃/min)和氧化石墨烯(GO)浓度(0.01、0.1、1和5 mg/ml)对VS55溶液降温过程结晶和升温过程冰晶再生长的影响.结果表明:(1)随着升降温速率的增加,VS55溶液体系在降温过程中的结晶焓Hf以及升温过程中的再结晶焓HTd都会减小;(2)对浓度为2.1 mol/L的VS55溶液进行降温时,GO浓度越大,其结晶焓Hf越大,且初始冻结温度显著提高;但对4.2 mol/L VS55降温时,其结晶焓Hf会随着GO浓度增加呈现出先减小后增大的特点;8.4 mol/L VS55已完全玻璃化,GO对其没有影响;(3)在升温过程中,GO浓度越高,VS55浓度越低,其溶液体系内冰晶再生长抑制程度越大,如GO浓度为5 mg/ml时,2.1 mol/L VS55溶液添加GO前后再结晶焓的差值ΔHTd为14.55 J/g,而4.2 mol/L VS55就显著降低到7.95 J/g,接近8.4 mol/L VS55的6.91 J/g.总体来看,GO对VS55溶液降温过程冰晶生长特点的影响主要取决于VS55浓度和GO浓度,但对复温过程反玻璃化或冰晶再生长特点的影响主要取决于VS55浓度、GO浓度以及升降温速率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胥义	上海理工大学生物系统热科学研究所	71	367	9.0	16.0
2	刘道平	上海理工大学制冷及低温工程研究所	182	1400	18.0	27.0
3	郭宁	上海理工大学生物系统热科学研究所	11	35	3.0	5.0
4	雒苗苗	上海理工大学生物系统热科学研究所	1	0	0.0	0.0