单层TiO2/SiO2光学薄膜减散射理论与实验探究

• 作者: 刘金泽 杨琛 潘永强
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 双向反射分布函数 减散射 表面粗糙度 光学厚度 折射率
• 年，卷（期）: 2019,（8）
• 所属期刊栏目: 表面强化及功能化
• 页码范围: 172-176
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3208字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.08.023

摘要

目的 降低单层光学薄膜的散射损耗.方法 通过相干散射理论研究,给出了单层光学薄膜减散射的理论依据.利用电子束热蒸发技术在K9玻璃上分别镀制了单层光学厚度为γ/2的TiO2和γ/4的SiO2薄膜,并通过改变工艺对薄膜的表面粗糙度进行了调控,利用horos散射仪分别测量了镀膜前后光学元件表面的双向反射分布函数.结果 对于光学厚度为γ/2的单层TiO2薄膜,当薄膜上下界面粗糙度比值为0.7时,减散射效果明显优于比值为0.6和0.9,且比值越接近0.71,减散射效果越明显.对于光学厚度为γ/4的单层SiO2薄膜,当薄膜上下界面粗糙度比值为0.7时,减散射效果明显优于比值为0.8和1.4,且比值越接近0.13,减散射效果越明显.结论 单层光学薄膜减散射条件不仅与光学薄膜的界面粗糙度有关,而且与薄膜光学厚度和膜料折射率也有着密切的关系.对于特定光学厚度的单层TiO2和SiO2薄膜,当薄膜上下界面的粗糙度比值满足减散射区间时,都可以实现减散射的效果,且比值越接近最佳减散射比值,减散射的效果越好.此外,在一定条件下,薄膜表面粗糙度大于基底表面粗糙度时,也有可能实现减散射的效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘永强	西安工业大学光电工程学院	63	392	11.0	15.0
2	杨琛	西安工业大学光电工程学院	3	5	1.0	2.0
3	刘金泽	西安工业大学光电工程学院	2	0	0.0	0.0