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高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)等离子体 放电时空特性研究进展
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)等离子体 放电时空特性研究进展
作者:
李刘合
李花
罗阳
艾猛
韩明月
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
高功率脉冲磁控溅射
等离子体参数
靶电流
时间特性
空间特性
摘要:
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电凭借着高离化率优势,已经成为物理气相沉积(PVD)领域的核心技术.鉴于HiPIMS放电具有复杂的物理场配置和兆瓦级的峰值功率,其产生的不均匀等离子体严重影响着薄膜的性能.从HiPIMS放电等离子体的时间和空间特性角度出发,结合放电靶电流、等离子体阻抗、离子饱和电流的特性,以及各种粒子在不同时刻和空间位点对应的相互作用和运动轨迹,综述了近年来国际上关于HiPIMS脉冲放电过程中等离子体参数的时空演变特性以及脉冲等离子体动力学行为,主要包含了等离子体物理量的时间演变规律,复杂物理场的空间分布行为,粒子密度、能量的扩散传输机制,靶材粒子离化程度的表征方法等,并全面地叙述了气体原子稀释效应、气体循环、双极扩散、等离子体波、旋转的spoke等不稳定传输特性.此外,依据等离子体时空特性,总结出HiPIMS放电沉积速率低的内因,介绍了提高沉积速率的方法和机理.最后,指出了目前关于HiPIMS时空特性研究方面存在的问题和发展方向.
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高功率脉冲磁控溅射
放电特性
靶电流
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高功率脉冲磁控溅射
非晶碳薄膜
放电特征
沉积速率
反应性磁控溅射
金属掺杂非晶碳薄膜
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
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相关文献总数
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文献信息
篇名
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)等离子体 放电时空特性研究进展
来源期刊
表面技术
学科
工学
关键词
高功率脉冲磁控溅射
等离子体参数
靶电流
时间特性
空间特性
年,卷(期)
2019,(9)
所属期刊栏目
专题——高能冲击磁控溅射技术及工程应用
研究方向
页码范围
20-52
页数
33页
分类号
TG174.4
字数
14682字
语种
中文
DOI
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.09.003
五维指标
作者信息
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李刘合
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高功率脉冲磁控溅射
等离子体参数
靶电流
时间特性
空间特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
主办单位:
中国兵器工业第五九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-3660
CN:
50-1083/TG
开本:
16开
出版地:
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
邮发代号:
78-31
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
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