射频辅助磁控溅射制备梯度Cr/CrC膜的性能

• 作者: 刘文军 罗书径 谭科 黄珂
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 射频辅助磁控溅射 梯度薄膜 射频功率 结合性能 过渡层
• 年，卷（期）: 2019,（9）
• 所属期刊栏目: 膜层材料与技术
• 页码范围: 287-292
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.442
• 字数: 3388字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.09.034

摘要

目的 改善CrC薄膜的制备工艺,提高薄膜的结合强度.方法 采用射频偏压辅助磁控溅射技术,以Cr和石墨为靶材,C2H2为反应气体,在M42高速钢表面制备梯度Cr/CrC膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、Raman光谱仪分析薄膜的微观形貌、成分组成、键结构,用纳米压痕仪、洛氏硬度计对薄膜的结合性能进行评价.结果 成功制备了表面致密均匀的梯度Cr/CrC薄膜,薄膜中sp3键含量随石墨靶射频功率的增加而呈现先增大后减小的趋势.薄膜的结合强度随射频功率的增大而先增大后减小,射频功率为250 W时,薄膜中含有最多的sp3键,并且有最高的硬度,硬度值为21 GPa.结论纯Cr过渡层能有效吸收薄膜中的内应力,改善膜/基结合性能,对Cr/CrC薄膜结合强度有明显增强作用.石墨靶的射频功率大小对梯度Cr/CrC膜的结构和结合强度有显著影响,射频功率为250 W时,制备出的薄膜具有最高的硬度和结合强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘文军		3	2	1.0	1.0
2	黄珂		1	0	0.0	0.0
3	谭科		1	0	0.0	0.0
4	罗书径		1	0	0.0	0.0