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掺铌SrTiO3中的逆自旋霍尔效应
掺铌SrTiO3中的逆自旋霍尔效应
作者:
何冬梅
张万里
张文旭
彭斌
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
掺杂
SrTiO3
逆自旋霍尔效应
摘要:
采用磁控溅射法在未掺杂和掺杂的SrTiO3基片上沉积了NiFe薄膜,通过翻转测试法分离出掺杂样品中的自旋整流电压和逆自旋霍尔电压.研究结果表明:在未掺杂的SrTiO3基片中,翻转前后测试的电压曲线基本一致,为NiFe薄膜自旋整流效应产生的电压.对于掺Nb浓度x为0.028,0.05,0.1,0.15,0.2的SrTiO3基片,分离出的逆自旋霍尔电压随掺杂浓度增加而减小,在掺杂浓度为0.15和0.2的样品中没有探测到明显的逆自旋霍尔电压.本文的结果表明,在SrTiO3中掺入强自旋轨道耦合的杂质,通过掺杂浓度可以实现对SrTiO3中逆自旋霍尔效应的调控,这类可调控的自旋相关研究为自旋电子器件的研究和开发提供了更多的可能性,具有很大的潜在应用价值.
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文献信息
篇名
掺铌SrTiO3中的逆自旋霍尔效应
来源期刊
物理学报
学科
关键词
掺杂
SrTiO3
逆自旋霍尔效应
年,卷(期)
2019,(10)
所属期刊栏目
凝聚物质:结构、力学和热学性质
研究方向
页码范围
200-204
页数
5页
分类号
字数
1881字
语种
中文
DOI
10.7498/aps.68.20190118
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张万里
电子科技大学电子科学与工程学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
142
705
13.0
17.0
2
彭斌
电子科技大学电子科学与工程学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
87
638
12.0
21.0
3
张文旭
电子科技大学电子科学与工程学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
35
302
9.0
16.0
4
何冬梅
电子科技大学电子科学与工程学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
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2019(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
掺杂
SrTiO3
逆自旋霍尔效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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