激光刻蚀对镀金表面二次电子发射的有效抑制

• 作者: 冯鹏 叶鸣 崔万照 王丹 贺永宁
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 激光刻蚀 微结构 二次电子发射 二级粗糙结构
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 209-217
• 页数: 9页
• 字数: 5419字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.68.20181547

摘要

使用红外激光刻蚀技术在镀金铝合金表面制备了多种形貌的微孔及交错沟槽阵列.表征了两类激光刻蚀微阵列结构的三维形貌和二维精细形貌,分析了样品表面非理想二级粗糙结构的形成机制.研究了微阵列结构二次电子发射特性对表面形貌的依赖规律.实验结果表明:激光刻蚀得到的微阵列结构能够有效抑制镀金表面二次电子产额(secondary electron yield,SEY),且抑制能力明显优于诸多其他表面处理技术;微阵列结构对SEY的抑制能力与其孔隙率及深宽比呈现正相关,且孔隙率对SEY的影响更为显著.使用蒙特卡罗模拟方法并结合二次电子发射唯象模型和电子轨迹追踪算法,仿真了各微结构表面二次电子发射特性,模拟结果从理论上验证了微阵列结构孔隙率及深宽比对表面SEY的影响规律.本文获得了能够剧烈降低镀金表面SEY的微阵列结构,理论分析了SEY对微结构特征参数的依赖规律,对开发空间微波系统中低SEY表面及提高镀金微波器件性能有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丹	西安交通大学微电子学院	59	285	6.0	16.0
2	贺永宁	西安交通大学微电子学院	58	265	9.0	12.0
3	叶鸣	西安交通大学微电子学院	22	99	6.0	9.0
4	冯鹏	西安交通大学微电子学院	6	1	1.0	1.0