TiO2-蒙脱土纳米材料制备及其光催化性能研究

• 作者: 方继敏 胡丽君
• 来源期刊: 云南化工
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2-蒙脱石 禁带宽度 表面反应 光催化
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 探索与应用
• 页码范围: 121-122,126
• 页数: 3页
• 分类号: TQ426.99
• 字数: 1938字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-275X.2019.01.047

摘要

自组装制备出TiO2-蒙脱石纳米材料,采用BET和UV-Vis DRS表征手段对材料比表面积及禁带宽度进行分析,通过表面酸碱滴定实验分析材料表面反应,并通过光催化实验研究分析材料的光催化降解性能.结果 表明:TiO2-蒙脱石在滴定过程中发生质子化合脱质子化反应,其对MB的光催化降解率达65.46％,降解性能良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方继敏	武汉理工大学资源与环境工程学院	50	204	9.0	12.0
2	胡丽君	武汉理工大学资源与环境工程学院	1	0	0.0	0.0