硅晶圆表面氧化硅薄膜的化学沉积及温度对反应动力学的影响研究

• 作者: 阳耀月
• 来源期刊: 山东化工
• 学科: 工学
• 关键词: 硅 二氧化硅 单面制绒 湿法制备 生长动力学
• 年，卷（期）: 2019,（15）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 42-43,47
• 页数: 3页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 1446字
• 语种: 中文

摘要

为推动开发硅基太阳能电池单面制绒工艺,本研究利用化学湿法在Si晶圆表面构建了均一的SiO2膜(记为SiO2@Si),动力学研究表明膜生长速率从(1.1±0.01)nm·min-1(30℃)逐渐增至(4.9±0.41)nm·min-1(70℃),这与该沉积反应的吸热特性相符.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阳耀月	西南民族大学化学与环境保护工程学院	6	2	1.0	1.0