中西方集成电路技术发展的差异、原因及对策建议

• 作者: 吴桉伦
• 来源期刊: 科技与创新
• 关键词: 集成电路技术 芯片 制造中心 生产线
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 创新思维
• 页码范围: 80-81
• 页数: 2页
• 分类号: F426.63
• 语种: 中文
• DOI: 10.15913/j.cnki.kjycx.2019.02.080

摘要

中西方集成电路技术发展差异明显,对此深入分析了产生差异的原因,并总结了缩小发展距离、减少发展差异的有效措施,目的在于推动中国集成电路技术的发展进步.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴桉伦		1	2	1.0	1.0