初探六方氮化硼紫外探测器的研究现状

• 作者: 何佳琦 庄舒文 成浩男 李增润 王维 赵曼 陈迪晖
• 来源期刊: 数字化用户
• 关键词: 氮化硼 紫外探测器 MSM 掺杂 响应度
• 年，卷（期）: 2019,（33）
• 所属期刊栏目: 设计与研究
• 页码范围: 252,254
• 页数: 2页
• 字数: 2076字
• 语种: 中文

摘要

氮化硼在微电子及光电子器件等方面有非常广泛的应用前景.本文介绍了近年来国内外不同结构类型的六方氮化硼基紫外探测器的研究状况,对六方氮化硼的薄膜质量、掺杂和金半接触特性等关键技术进行了探讨,并对未来六方氮化硼紫外探测器的发展重点做了展望,认为应该通过改善薄膜的制备技术来提高器件响应度.