金属诱导晶化基础与应用研究进展

• 作者: 张安 王江涌 王祖敏 陈媛媛 黄远
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属诱导晶化 界面热力学 金属/半导体体系 固相反应 对流传输
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 66-82
• 页数: 17页
• 分类号: TG111.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.11900/0412.1961.2019.00187

摘要

将非晶半导体与金属相接触,可以诱导非晶半导体在极低的温度下结晶,这一现象被称为金属诱导晶化.薄膜状态的晶体半导体是用于众多先进技术中的关键材料,被广泛应用于微电子、光电子、显示技术和光伏技术等领域.金属诱导晶化为低温晶体半导体器件的制造、纳米多孔金属材料的合成以及金属材料界面工程提供了一种崭新的途径,引起了学术界和工业界的广泛关注.本文综述了金属诱导晶化的研究进展,对不同金属/非晶半导体体系中存在的金属诱导晶化现象进行了归纳分类总结,对其热力学原理和动力学机制进行了详细的计算与分析,突出了界面热力学在薄膜体系的固→固相变中的作用,最终阐明了金属诱导晶化过程的内在机理,并对金属诱导晶化过程未来的研究趋势进行了展望.