三氟化硼的制备及纯化技术研究进展

• 作者: 何双材 刘武灿 张金柯 曾群 白占旗 缪光武
• 来源期刊: 有机氟工业
• 关键词: 三氟化硼 制备 纯化
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 专论与综述
• 页码范围: 43-47
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

高纯三氟化硼是半导体离子注入用的重要掺杂离子源,在电子工业中有着广泛的应用.介绍了三氟化硼常用的制备方法及其优缺点,列举了三氟化硼的纯化方法.在实际生产过程中,企业可根据自身的情况选择合理的生产路线,结合三氟化硼粗品的杂质种类,选择合适的纯化方法,得到高纯度的三氟化硼产品.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘武灿	浙江省化工研究院有限公司含氟温室气体替代及控制处理国家重点实验室	24	30	2.0	5.0
2	张金柯	浙江省化工研究院有限公司含氟温室气体替代及控制处理国家重点实验室	11	25	2.0	5.0
3	何双材	浙江省化工研究院有限公司含氟温室气体替代及控制处理国家重点实验室	8	11	2.0	3.0
4	白占旗	浙江省化工研究院有限公司含氟温室气体替代及控制处理国家重点实验室	11	6	2.0	2.0
5	曾群	浙江省化工研究院有限公司含氟温室气体替代及控制处理国家重点实验室	5	1	1.0	1.0
6	缪光武	浙江省化工研究院有限公司含氟温室气体替代及控制处理国家重点实验室	7	3	1.0	1.0