850nm滤光片的设计、制备及激光损伤特性

• 作者: 徐均琪 李绵 王建 胡景波 苏俊宏
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 窄带滤光片 离子辅助 峰值透射率 激光损伤阈值 电场强度
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 表面功能化
• 页码范围: 112-118
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 2256字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.03.014

摘要

目的采用热蒸发沉积技术制备可用于人脸部识别的850 nm滤光片,研究滤光片的激光损伤阈值以及薄膜内部的电场分布.方法采用TFC膜系仿真设计软件完成850 nm滤光片的设计与优化.采用真空箱式镀膜机,通过增加挡板、调整监控波长,以离子束辅助热蒸发沉积技术完成滤光片的制备.结果通过紫外-红外分光光度计实现了在中心波长透射率为83.05％、其他波段T<5％的光谱特性测试.采用R-on-1的激光损伤测试方法得到TiO2/SiO2组合滤光片的激光损伤阈值达4.2 J/cm2,ZnS/MgF2组合滤光片为2.8 J/cm2.TiO2/SiO2组合滤光片空气-薄膜界面电场强度为0.3474,ZnS/MgF2组合滤光片为0.9357.分析显微镜下的微观结构得到,相比TiO2/SiO2组合,同一能量下,ZnS/MgF2组合的薄膜激光损伤斑较大,易出现损伤.结论可以通过增加挡板、调整监控波长的方式实现窄带滤光片的制备.为了更好地获得激光损伤阈值较高的滤光片薄膜,在设计滤光片时尽可能地降低薄膜与空气界面处的电场分布,即界面处电场强度分布越小,薄膜表面抗激光损伤的能力越强.同时发现TiO2/SiO2组合滤光片激光损伤阈值大于ZnS/MgF2组合滤光片.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐均琪	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	87	611	13.0	20.0
2	苏俊宏	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	111	496	12.0	16.0
3	王建	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	11	27	2.0	5.0
4	李绵	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	7	6	1.0	2.0
5	胡景波	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	1	0	0.0	0.0