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摘要:
用MCNP程序对X射线辐照圆柱腔端面和侧面激励光电子发射的过程进行模拟,计算得到了出射电子的能谱、θ角分布及产额等发射参数随X射线入射状态的变化规律,并给出了处理曲面发射问题的蒙特卡罗(MC)统计方法,拟合得到了能谱参数E1随黑体温度和入射角变化的经验公式.利用MC抽样方法给出了将电子发射参数与3维全电磁PIC程序结合的宏粒子构建方式,并完成了X射线辐照圆柱腔体侧面激励的系统电磁脉冲场环境的模拟计算.结果 表明,在模型边、角等几何变化处容易出现电场强度、磁场强度的极大值,需要对这些部位进行有效的抗系统电磁脉冲加固.
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文献信息
篇名 X射线辐照圆柱腔体SGEMP电子发射参数的计算
来源期刊 现代应用物理 学科 物理学
关键词 系统电磁脉冲 电子发射参数 Monte Carlo方法 宏粒子
年,卷(期) 2020,(1) 所属期刊栏目 电磁场与电磁波
研究方向 页码范围 58-66
页数 9页 分类号 O434.14
字数 5333字 语种 中文
DOI 10.12061/j.issn.2095-6223.2020.010501
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 牛胜利 41 163 5.0 11.0
2 陶应龙 13 26 3.0 3.0
3 陈剑楠 4 4 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
系统电磁脉冲
电子发射参数
Monte Carlo方法
宏粒子
研究起点
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现代应用物理
季刊
2095-6223
61-1491/O4
大16开
西安市69信箱15分箱
2010
chi
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