膜厚对FePt薄膜择优取向生长和磁性能的影响

• 作者: 何木芬
• 来源期刊: 电工材料
• 关键词: FePt薄膜 相转变 择优取向 磁性能
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 研究·分析
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: TM27
• 语种: 中文
• DOI: 10.16786/j.cnki.1671-8887.eem.2020.03.009

摘要

采用直流磁控溅射的方法在Si基片上制备了FePt薄膜,研究了膜厚对FePt薄膜结构与磁性能的影响.结果 表明:在600℃热处理1h,FePt薄膜由无序的面心立方相向有序的面心四方相的转变基本完成;随着膜厚减小至40 nm,在没有缓冲层、不使用有取向衬底、不对基片加热的情况下,表现出明显的(001)择优取向,但膜越薄表面越容易出现空洞.磁性能测试表明,越薄的FePt薄膜的矫顽力越大,40 nm厚的薄膜的矫顽力可达到～1 5.9 kOe.膜厚的减小对FePt薄膜的择优取向生长和磁性能具有较大的提升作用.