纳米压印胶专利技术研发态势

• 作者: 戴翀 李明瑞 李珍珍 罗联源 边昕 郜珺珩
• 来源期刊: 科学观察
• 关键词: 纳米压印胶 技术 态势
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 12-28
• 页数: 17页
• 语种: 中文
• DOI: 10.15978/j.cnki.1673-5668.202003002

摘要

纳米压印胶是目前纳米压印技术研发的关键材料,对纳米压印的质量起到关键作用.该文从纳米压印胶的基本技术概况出发,分析阐述了当前纳米压印胶专利技术的专利申请态势、主要申请人和重点技术,梳理了该技术的发展脉络,绘制了技术演进路线图,并对技术发展趋势进行了预测.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴翀	国家知识产权局专利局光电技术发明审查部	4	10	2.0	3.0
2	李珍珍	国家知识产权局专利局光电技术发明审查部	4	3	1.0	1.0
3	边昕	国家知识产权局专利局光电技术发明审查部	2	1	1.0	1.0
4	罗联源	国家知识产权局专利局光电技术发明审查部	1	0	0.0	0.0
5	李明瑞	国家知识产权局专利局光电技术发明审查部	1	0	0.0	0.0
6	郜珺珩	国家知识产权局专利局光电技术发明审查部	1	0	0.0	0.0