基于光刻方法的厚膜微细布线技术研究

• 作者: 李创 王博哲 袁海 谭晓惠 郝沄
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: 厚膜 光刻 腐蚀 微细布线
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 微组装技术SMT PCB
• 页码范围: 76-79,113
• 页数: 5页
• 分类号: TN452
• 字数: 4457字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14176/j.issn.1001-3474.2020.02.004

摘要

通过研究光刻/腐蚀工艺,突破高均匀性可腐蚀的厚膜膜层制作、光刻精度优化与腐蚀钻蚀控制等关键技术,实现了厚膜高精度微细布线基板制作与考核.基板特征线宽/间距45μm/45μm,线条尺寸精度±3μm,显著改善印刷金导体线条的图形精度和垂直度.通过了基板军标可靠性考核,为拓宽厚膜基板技术应用领域提供技术支撑.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郝沄	中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所	1	0	0.0	0.0
2	袁海	中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所	2	2	1.0	1.0
3	李创	中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所	1	0	0.0	0.0
4	王博哲	中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所	1	0	0.0	0.0
5	谭晓惠	中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所	1	0	0.0	0.0