磁控溅射制备钛基薄膜研究进展

• 作者: 任鑫明 宋长虹 迟迅 马北越 高陟 鲍君峰
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: 磁控溅射 钛基薄膜 研究进展
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 17-21
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7127.2020.02.003

摘要

磁控溅射技术是制备钛基薄膜常用的方法.本文综述了磁控溅射法的基本原理、特点及方法种类,并总结了磁控溅射法制备TiO2、TiN、TiC薄膜和Ti复合薄膜的最新研究进展,最后展望了磁控溅射技术制备Ti基薄膜的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马北越		55	251	9.0	11.0
2	高陟		6	0	0.0	0.0
3	任鑫明		11	25	4.0	5.0
4	迟迅		1	0	0.0	0.0
5	宋长虹		1	0	0.0	0.0
6	鲍君峰		1	0	0.0	0.0