氧化石墨烯膜的还原条件探究及应用

• 作者: 张宇群 李昕 沈文东 罗胜利 陈清清 齐凯 龚
• 来源期刊: 北京服装学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化石墨烯 紫外光照 碘化氢还原 方块电阻 电致发热膜
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 14-20
• 页数: 7页
• 分类号: TQ165
• 语种: 中文

摘要

采用改进的Hummers法制备了氧化石墨烯并涂覆于PET基底上,分别采用紫外光照射和HI还原法对若干组膜进行还原,控制还原温度和时间,通过扫描电镜观察每组膜的表面,将还原后膜的红外光谱、XPS谱图与氧化石墨烯的谱图比对,并采用四探针法计算出每片膜的方块电阻.结果 表明:紫外光照射处理后的膜表面要比HI处理后的表面光滑,但电阻很高,红外谱图显示还原效果不佳;碘化氢80℃下还原2.0h所得膜的红外谱图显示含氧官能团基本全部还原,还原效果好,膜方块电阻为(2.35 +0.19)Ω/sq,在施以直流电压2.5V、电流0.45 A的条件下,通电发热温度可达37.1℃,有望用于电致发热材料.