化学气相沉积温度对钽涂层的显微组织及力学性能的影响

• 作者: 张诩翔 张贵学 易健宏 李旭铭 胡昌义 蔡宏中 魏燕
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 钽涂层 沉积温度 显微组织 力学性能
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 94-97,104
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.4
• 语种: 中文

摘要

为了探究沉积温度对化学气相沉积金属钽涂层组织及性能的影响,利用TaCl5-H2-HCl反应体系,以冷壁式化学气相沉积法(CVD)用不同沉积温度在钼基体表面沉积了钽涂层.研究了不同沉积温度下的化学气相沉积钽涂层的显微组织、力学性能及断口形貌等.结果 表明:在1 000～1 300℃范围内,涂层晶粒尺寸随沉积温度的升高逐渐增大,涂层的抗拉强度和延伸率随温度的升高均逐渐降低,涂层的断裂方式由韧性断裂转变为脆性断裂.