NiCrAlY涂层与Ni3Al基单晶高温合IC21基体互扩散行为研究

• 作者: 曹家旭 李风 杨焜 邓春明 邓鹏
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: Ni3Al基单晶高温合金IC21 NiCrAlY涂层 静态氧化 互扩散
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 87-94
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

采用低压等离子喷涂技术在Ni3Al基单晶高温合金IC21基体上沉积NiCrAlY涂层.将样品在1150℃的恒定温度下进行200 h的静态氧化,利用SEM、EDS、XRD及TEM表征涂层和基体在高温下互扩散后的微观结构和相组成,得到涂层与基体高温下的互扩散规律.结果表明:NiCrAlY涂层/IC21单晶在1150℃下静态氧化5h时出现了互扩散区(IDZ)和二次反应区(SRZ);随着氧化时间的延长,IDZ的厚度呈现逐渐增宽趋势,初始0～50 h时IDZ厚度增率攀升较快,50～100 h时增长有放缓趋势,100～200 h时增速下降明显;NiCrAlY涂层/IC21单晶在1150℃下静态氧化后产生了两种不同取向的析出相,分别为针叶状和竹叶状,析出相成分均包含Re,Mo,Cr及Ni元素且成分相近,根据晶面间距计算得出该相为μ-TCP相,出现不同取向的原因为Re和Mo元素易在基体中形成局部过饱和,元素的差异使μ-TCP相优先沿着Re或者Mo含量较高的晶面生长,从而使μ相产生两种不同取向.