FTW150K高比容钽粉研制钽电容器电介质膜形成工艺的研究

• 作者: 包富贵 张学清 李福成 柳金洲
• 来源期刊: 宁夏大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 钽电解电容器 高比容钽粉 工艺参数 形成电压 形成电流
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 化学
• 页码范围: 164-167,174
• 页数: 5页
• 分类号: TN605|TQ150.41
• 字数: 2829字
• 语种: 中文

摘要

研究FTW150K高比容钽粉研制钽电解电容器电介质膜的形成工艺.用例试方法分析,讨论在容量、损耗参数引出难和形成工艺不稳定条件下,钽电解电容器的形成电压、形成电流及形成温度等对电介质膜的影响.结果表明,形成致密的电介质氧化膜是容量引出的关键,当形成电压为额定电压的4～5 倍、形成电流为 1.76 μA 时为该实验的最佳工艺条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	柳金洲		1	0	0.0	0.0