不同梯度光照强度对黄瓜嫁接苗愈合及幼苗质量影响

• 作者: 廖自月 林碧英 王悦 申宝营 钟路明
• 来源期刊: 热带作物学报
• 学科: 农学
• 关键词: 黄瓜 光照强度 嫁接苗 愈合 质量
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 植物生理生化
• 页码范围: 701-708
• 页数: 8页
• 分类号: S626.9
• 字数: 5098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2561.2020.04.010

摘要

为探究黄瓜嫁接苗愈合及幼苗生长的最佳光照模式,本研究选择南瓜'壮士'品种为砧木,黄瓜'大棚冬青'品种为接穗,顶插嫁接后0～3、4～6、7～10 d为阶段性递增光照模式,以(0-30-45)μmol/(m2·s)为对照(CK),设[(15-30-45)、(30-60-90)、(45-90-135)、(60-120-180)、(75-150-225)μmol/(m2·s)]分别为T1、T2、T3、T4和T5处理,研究不同梯度光照强度对黄瓜嫁接苗愈合生长及幼苗质量的影响.结果表明,与CK相比,嫁接后0～3 d适宜光照优于黑暗条件,光照强度梯度在处理T2～T5之间时,能显著提高接合部愈合效果(P<0.05);其中T3处理最有利于黄瓜嫁接苗愈合及生长,其地上部、地下部形态生长指标最佳,最有利于促进黄瓜嫁接苗雌花分化和早熟;T3与T4处理幼苗真叶生长势较优,而T2与T3处理有利于嫁接苗光合色素含量的增加;运用隶属函数值法进行综合分析,各处理下隶属函数综合评价值大小排名为:T3>T2>T4>T5>T1>CK.综合分析得出,T3处理即嫁接后0～3、4～6、7～10 d的光强梯度为(45-90-135)μmol/(m2·s),最有利于黄瓜嫁接苗的愈合生长及幼苗质量的提高,故T3梯度光照强度可作为黄瓜嫁接苗愈合期处理的最适光强模式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林碧英	福建农林大学园艺学院	73	448	11.0	16.0
2	申宝营	福建农林大学园艺学院	17	36	4.0	5.0
3	廖自月	福建农林大学园艺学院	5	19	3.0	4.0
4	王悦	福建农林大学园艺学院	1	0	0.0	0.0
5	钟路明	福建农林大学园艺学院	4	1	1.0	1.0