磁流变抛光回转对称非球面工件精确自定位

• 作者: 周涛 张云飞 张建飞 樊炜 黄文
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 回转对称非球面 迭代最近点 指定性匹配 垂直映射
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 610-620
• 页数: 11页
• 分类号: TH161.24
• 字数: 6538字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20202803.0610

摘要

为解决磁流变抛光中回转对称非球面工件的高效率精确自定位问题,提出了基于迭代最近点的改进两级定位方法.根据磁流变抛光特性和恒浸深控制要求,确定了磁流变抛光工件非调平自定位原理.针对经典迭代最近点算法应用于回转对称非球面工件定位存在解不唯一及计算效率低的问题,构建初始迭代矩阵实现了位姿唯一的指定性匹配,并提出了空间垂直映射方法,减小匹配点云的规模,提高了计算效率.以此为基础,提出了改进后的两级迭代最近点精确定位方法.最后,以 Φ100 m m凹形抛物面熔石英工件为对象进行了抛光实验.实验结果表明:改进两级精确定位方法满足磁流变抛光的定位要求,定位精度在多次实验中均优于9μm,平均定位时间为7.3min,在保证定位精度的同时提高了工件的定位效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云飞	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	21	59	5.0	6.0
2	黄文	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	49	206	7.0	12.0
3	周涛	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	7	3	1.0	1.0
4	樊炜	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	2	1	1.0	1.0
5	张建飞	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	2	0	0.0	0.0