无氟酸溶ICP-AES同时测定铝及铝合金中低含量硅

• 作者: 李传启 杨崇秀
• 来源期刊: 广州化学
• 学科: 化学
• 关键词: 硅 铝及铝合金 无氟酸溶 电感耦合等离子体原子发射光谱法
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 29-32,37
• 页数: 5页
• 分类号: O657.31
• 字数: 2780字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16560/j.cnki.gzhx.20200303

摘要

提出了一种基于无氟酸溶、电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法同时测定铝及铝合金中低含量硅的方法.铝及铝合金中低含量硅,以无定形硅、固溶体、金属间化合物形式存在.探讨了样品与酸、碱的反应,以及各种溶解体系的分解行为,表明强氧化剂存在,能有效抑制硅烷生成.结合化学热力学、动力学,过氧化氢-稀盐酸溶解样品,Si 288.158 nm为分析线,测定范围0.01％～1.0％,校准曲线的线性相关系数0.999 6,ICP-AES同时测定铝及铝合金中低含量硅以及铜、镁、锰、铁、锌、镍、钛等元素.方法 操作简便、准确、快速、稳定,经济实用,结果满意.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李传启	中国长江动力集团有限公司中试室	6	7	2.0	2.0
2	杨崇秀	中国长江动力集团有限公司中试室	3	4	1.0	2.0