同步辐射光电离质谱检测氟原子在二氧化硅表面反应产物

• 作者: 唐小锋 张为俊 张翠红 杨玖重 汪程程 温作赢 王涛 顾学军
• 来源期刊: 质谱学报
• 学科: 化学
• 关键词: 真空紫外光电离质谱 同步辐射 微波放电 氟原子 二氧化硅 电离能
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 39-47
• 页数: 9页
• 分类号: O657.63
• 字数: 5082字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/zpxb.2019.0001

摘要

采用微波放电等离子体源产生高密度F原子,结合同步辐射真空紫外光电离质谱全面检测F原子在二氧化硅表面刻蚀反应的产物,并探究其反应机理.通过扫描同步辐射光子能量,获得具有特定质量选择的离子光电离效率谱,测量了反应产物的电离能及碎片离子的出现势等基本参数;同时结合量子化学理论计算质谱中离子的来源,即对光电离和光解离过程进行了区分.结果 表明,F原子在二氧化硅表面会反应生成一系列的氟氧硅化合物(SixOyFz),主要包括SiF4、SiF3OSiF3和SiFOSiF2OF等,质谱中观察到的SiF3+、SiFaOSiF2+等离子信号来源于其对应母体离子的解离碎片.实验测得SiF4的电离能为15.85 eV,SiF3+和SiF3OSiF2+碎片离子的出现势分别为16.20、16.40 eV.该方法实现了高效检测F原子刻蚀反应的产物,由于F原子具有较高的化学反应活性,该实验装置也可用于开展气相自由基反应研究,模拟大气化学和燃烧火焰等体系中的化学反应过程.