基于表面官能团反应的HCl电子气体深度除水研究

• 作者: 刘华平 叶向荣 张坚文 张广第 李军 陈刚 黄明星
• 来源期刊: 低温与特气
• 学科: 工学
• 关键词: 氯化氢电子气体 深度除水 活性炭 酰氯化 表面官能团
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1-10
• 页数: 10页
• 分类号: TQ117
• 字数: 5485字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7804.2020.02.001

摘要

HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气体的纯度、品质稳定性和制程应用效果至关重要.常规活性炭虽然耐HCl腐蚀,具有较高比表面积,但除水活性有限.该工作对活性炭进行了酰氯化修饰,并研究了酰氯化活性炭对HCl电子气体的深度除水作用.结果 表明,活性炭经氧化酸化和酰氯化处理后,形成的表面酰氯化官能团可选择性地与HCl电子气体中的ppmv(10-6)级水分反应,将水分转化为HCl,使HCl电子气体中水分降至ppbv级,同时自身水解生成表面羧基等官能团,对存在HCl电子气体中和活性炭可能释出的痕量金属离子,有吸附阻滞作用,抑制了深度除水后HCl电子气体中金属离子的显著增加.由于表面羧基等官能团可重新酰氯化,活性炭材料对HCl电子气体的高效、选择性深度除水能力再生成为可能.该工作也为探索石墨烯、碳纳米管等新型碳材料在电子气体深度纯化上的新应用提供了依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶向荣		7	13	2.0	3.0
5	刘华平		2	1	1.0	1.0
6	黄明星		2	1	1.0	1.0
7	张广第		1	0	0.0	0.0
8	李军		3	0	0.0	0.0
9	陈刚		2	1	1.0	1.0
10	张坚文		2	1	1.0	1.0