低压等离子喷涂TaSi2/MoSi2涂层组织结构及性能研究

• 作者: 倪立勇 文波 曲栋 杨杰 杨震晓 马康智
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: TaSi2/MoSi2涂层 低压等离子喷涂 高温抗氧化涂层
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与涂层性能
• 页码范围: 70-75
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7127.2020.03.008

摘要

采用低压等离子喷涂技术制备了TaSi2/MoSi2涂层.通过XRD、SEM、EDS等手段分析了涂层氧化前后组织结构及相结构.结果表明,TaSi2/MoSi2涂层呈现典型的层状结构,组织结构均匀致密,孔隙率为3.1％;涂层由TaSi2和MoSi2两相组成,喷涂过程中未发生相结构转变;空气中1650℃氧化30min后,涂层表面生成致密和玻璃态SiO2保护膜,涂层具有良好的自愈合能力,表现出良好的高温抗氧化性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	倪立勇		12	20	3.0	3.0
2	杨震晓		11	18	3.0	3.0
3	杨杰		11	37	3.0	5.0
4	马康智		8	13	3.0	3.0
5	文波		8	14	3.0	3.0
6	曲栋		4	1	1.0	1.0