W/BDD薄膜电极制备及其电化学性能研究

• 作者: 何辉 林如山 程仲平 肖益群 贾艳虹
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 硼掺杂金刚石 电极 氧离子 电解
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 第二届核材料技术创新学术会议优秀论文选
• 页码范围: 745-750
• 页数: 6页
• 分类号: TL241.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2019.youxian.0608

摘要

利用化学气相沉积(CVD)法研制了一种钨基硼掺杂金刚石(W/BDD)薄膜电极,通过扫描电镜和Raman光谱考察了W/BDD薄膜电极的性能,通过电化学方法测定了其在LiCl-KCl熔盐中的电化学窗口和电化学性能.结果表明,研制的W/BDD薄膜电极的BDD薄膜有较好的微观结构;W/BDD薄膜电极在LiCl-KCl熔盐中的电化学窗口约为3.5 V(-2.5～1.0 V,相对于Ag/AgCl参比极电位);电解过程中,氧离子不与W/BDD薄膜电极表面BDD薄膜层的碳反应,直接被氧化为氧原子;长时间电解不会改变电极表面薄膜层的形貌和结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何辉	中国原子能科学研究院放射化学研究所	96	219	8.0	11.0
2	贾艳虹	中国原子能科学研究院放射化学研究所	15	19	3.0	3.0
3	林如山	中国原子能科学研究院放射化学研究所	31	37	3.0	4.0
4	肖益群	中国原子能科学研究院放射化学研究所	10	6	2.0	2.0
5	程仲平	中国原子能科学研究院放射化学研究所	4	3	1.0	1.0