薄膜的材料特征

• 作者: 丁万昱 张爽 董闯 马艳平
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜材料 成分设计 氮化钛 非晶硼化物 金属掺杂类金刚石 团簇加连接原子模型
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 11-18
• 页数: 8页
• 分类号: TB43|O484.1|TH145
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.04.03

摘要

PVD、CVD涂层行业发展了多年,出现了多种等离子体和高能束辅助技术,但常用的工业涂层却集中在少数几种材料上,如金属氮化物、碳膜等.本文从材料的成分宽容性、结构稳定性、导电性三个基本原则出发,解释了薄膜材料的选材问题,并以氮化钛、非晶硼化物、金属掺杂类金刚石涂层为例,说明薄膜材料的选择源自工艺特性和材料性能二者的平衡,且以工艺性为主导.材料成分需要进行精确调控,以达到最佳的工艺性与性能的匹配,而成分根源是化学近程序结构,通过引入本课题组所提出并发展的团簇加连接原子模型,构建出类似于分子式的局域结构单元和相应成分式,进而对薄膜材料进行成分设计.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯		198	2023	23.0	34.0
3	马艳平	大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室	9	26	4.0	5.0
5	张爽		1	0	0.0	0.0