环境适应性中红外宽带减反射元件的研制

• 作者: 周秦岭 孙勇 崔云 张晗宇 张益彬 王勇禄 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光学器件 减反微结构 时域有限差分法 干涉曝光 反应离子束刻蚀
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 激光器件与激光物理
• 页码范围: 48-53
• 页数: 6页
• 分类号: O485|TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL202047.0301006

摘要

通过微结构结合镀膜的方法成功设计和制备了中红外宽带减反射元件.首先,利用FDTD Solutions软件,模拟了微结构周期、占空比、高度以及膜层厚度对所需波段透射率的影响规律,得到较好增透效果的微结构和膜层结构参数;根据设计参数,采用激光干涉曝光和反应离子束刻蚀技术在蓝宝石表面制备出相应微结构,然后在其表面镀制相应厚度的SiO2膜.测试结果表明:仅有单面微结构的蓝宝石元件在1.5～4 μm波段的平均透射率达到92.3％,具有复合结构的蓝宝石元件在该波段的平均透射率高达98.7％,相对双面抛光蓝宝石样品透射率提升11.0％左右,实现了蓝宝石表面的宽带增透;对具有复合结构的蓝宝石元件进行了湿度验证和高低温循环实验,实验前后透射率曲线无明显变化,且无明显水吸收,说明该元件具有很好的环境适用性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	孙勇	中国科学院上海光学精密机械研究所	26	317	12.0	17.0
3	周秦岭	中国科学院上海光学精密机械研究所	11	19	2.0	4.0
4	崔云	中国科学院上海光学精密机械研究所	21	153	8.0	12.0
5	王勇禄	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0
6	张益彬	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	2	1.0	1.0
7	张晗宇	中国科学院上海光学精密机械研究所	1	0	0.0	0.0