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等离子体工艺对PDMS褶皱断纹的影响
等离子体工艺对PDMS褶皱断纹的影响
作者:
刘杰
李孟春
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
纳米颗粒
聚二甲基硅氧烷(PDMS)
褶皱
自组装
等离子体
断纹
摘要:
一维聚二甲基硅氧烷(PDMS)褶皱可用于纳米颗粒自组装模板,具有制备工艺简单、成本低、适合大面积制备的优点,因而引起人们的广泛关注.然而,采用机械拉伸释放法形成褶皱的过程中会出现大量的断纹,进而影响褶皱模板的周期性.从断纹形成机理出发,将PDMS样品制备、机械拉伸及电机释放过程的工艺条件保持不变,通过调整等离子体产生的工艺参数来改善断纹.实验结果表明:气压和功率是影响褶皱断纹的主要因素,减小气压和减小功率可以使同周期褶皱断纹分别减少46.6%和26.6%.研究结果为制备不同周期的高质量PDMS褶皱模板提供实际参考,有利于其在自组装模板中的应用.
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文献信息
篇名
等离子体工艺对PDMS褶皱断纹的影响
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
纳米颗粒
聚二甲基硅氧烷(PDMS)
褶皱
自组装
等离子体
断纹
年,卷(期)
2020,(1)
所属期刊栏目
加工、测量与设备
研究方向
页码范围
73-79
页数
7页
分类号
TQ311
字数
语种
中文
DOI
10.13250/j.cnki.wndz.2020.01.012
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李孟春
太原理工大学物理与光电工程学院
17
44
4.0
6.0
2
刘杰
太原理工大学新型传感器与智能控制教育部重点实验室
11
17
2.0
3.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
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参考文献(0)
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引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
纳米颗粒
聚二甲基硅氧烷(PDMS)
褶皱
自组装
等离子体
断纹
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
总被引数(次)
16974
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