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摘要:
基于微米球刻蚀技术设计了一种制备多量子阱红外探测器(QWIP)表面二维光栅的新型工艺,通过改变微米球的直径可以为不同探测波长的QWIP制备表面二维光栅,有效降低了制备成本和技术难度.采用GaAs衬底作为实验片制作光栅、聚苯乙烯(PS)材质小球作为表面掩膜,对小球的单层排布、PS小球刻蚀和光栅的刻蚀等工艺进行了深入的实验研究,并得出了最优的工艺参数.制备出了具有良好均匀性和一致性的二维光栅结构.通过傅里叶光谱仪测得表面光栅的耦合波长为6~9μm.最后研究了不同工艺条件对耦合结果的影响,证实当光栅直径为PS球直径的0.74倍时获得的耦合效果最优.
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文献信息
篇名 多量子阱红外探测器耦合光栅的新型制备工艺
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 二维光栅 微米球刻蚀 量子阱 反应离子刻蚀(RIE) 多量子阱红外探测器(QWIP)
年,卷(期) 2020,(1) 所属期刊栏目 加工、测量与设备
研究方向 页码范围 66-72
页数 7页 分类号 TH741
字数 语种 中文
DOI 10.13250/j.cnki.wndz.2020.01.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 邓军 北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室 57 219 7.0 10.0
2 孙伟业 北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室 1 0 0.0 0.0
3 何磊磊 北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室 1 0 0.0 0.0
4 杜欣钊 北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室 1 0 0.0 0.0
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微米球刻蚀
量子阱
反应离子刻蚀(RIE)
多量子阱红外探测器(QWIP)
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