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光电子器件外壳脉冲电镀镍钴合金工艺及其耐蚀性
光电子器件外壳脉冲电镀镍钴合金工艺及其耐蚀性
作者:
刘永永
周光波
彭湘桂
陈加辉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
脉冲电镀
镍钴合金
氨基磺酸镍
电镀工艺
光电子器件外壳
耐腐蚀性
摘要:
目的 开发一种脉冲电镀镍钴合金工艺,并研究其镀层的耐腐蚀性能,以期将其应用于光电子器件外壳电镀领域.方法 采用脉冲电镀的方式获得电镀镍钴合金镀层,通过腐蚀失重试验、极化曲线测试以及电化学阻抗谱测试等方法考察镀层的耐腐蚀性能,通过场发射扫描电子显微镜、能谱仪和X射线衍射仪等设备对镀层的表面微观形貌、成分和晶体结构进行了表征,并与传统的电镀氨基磺酸镍工艺进行了抗腐蚀性能的比较.在耐腐蚀性能最优的工艺条件下,对公司某型号光电子器件外壳进行了镍钴合金电镀,并对产品的镀层进行一系列考核.结果 随着Co含量的增加,脉冲电镀镍钴合金镀层的结晶更均匀致密,晶粒、镀层孔隙更小.在3.5%NaCl溶液中,随着Co含量的增加,脉冲电镀镍钴合金镀层的自腐蚀电位正移,自腐蚀电流密度减小,电荷转移电阻增加.Co含量25%的脉冲电镀镍钴合金镀层的自腐蚀电位和自腐蚀电流密度分别为?331 mV和2.26μA/cm2,电荷转移电阻是212.62 kΩ.产品的镀层质量、引线涂敷强度、引线疲劳等考核均满足相关标准要求.结论 脉冲电镀镍钴合金镀层的耐蚀性随着Co含量的增加而增强.在3.5%的NaCl溶液中,Ni-Co(25%)的镀层自腐蚀电流仅是Ni镀层的44%.开发的脉冲电镀镍钴合金工艺可以应用于光电子器件外壳电镀领域.
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篇名
光电子器件外壳脉冲电镀镍钴合金工艺及其耐蚀性
来源期刊
表面技术
学科
工学
关键词
脉冲电镀
镍钴合金
氨基磺酸镍
电镀工艺
光电子器件外壳
耐腐蚀性
年,卷(期)
2020,(4)
所属期刊栏目
表面失效及防护
研究方向
页码范围
356-363
页数
8页
分类号
TQ153.2
字数
5065字
语种
中文
DOI
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.04.042
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周光波
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期刊影响力
表面技术
主办单位:
中国兵器工业第五九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-3660
CN:
50-1083/TG
开本:
16开
出版地:
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
邮发代号:
78-31
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
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