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摘要:
短波红外铟镓砷(InGaAs)探测器材料的表面缺陷是发展大规模小像元焦平面阵列的核心问题之一,其中与衬底晶格失配的延伸波长探测器材料的表面缺陷控制起来尤为困难.优化了分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)In束源炉的温度设置.结果 表明,In炉上下温差为130℃时所生长的短波红外晶格失配In0.83Ga0.17As材料的表面缺陷密度最小,由此有效地将材料的表面缺陷密度由3000 cm-2左右降至约500 cm-2.结合短波红外晶格失配InGaAs材料的室温光致发光测试,经分析可知,In束源炉上下温差存在最优值的现象是由于In金属液滴和炉子顶部杂质引起卵形缺陷这两种机制的共同作用而引起的.本文制备的低缺陷密度晶格失配InGaAs探测器材料为发展高性能延伸波长短波红外焦平面阵列打下了基础.
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文献信息
篇名 短波红外铟镓砷探测器材料表面缺陷研究
来源期刊 红外 学科 工学
关键词 短波红外 延伸波长 InGaAs探测器材料 表面缺陷 分子束外延
年,卷(期) 2020,(3) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1-8
页数 8页 分类号 TN304
字数 4188字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-8785.2020.03.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贺训军 哈尔滨理工大学理学院 16 40 4.0 5.0
2 顾溢 中国科学院上海技术物理研究所 11 79 6.0 8.0
6 黄卫国 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 2 16 1.0 2.0
7 金宇航 哈尔滨理工大学理学院 1 0 0.0 0.0
11 张见 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 1 0 0.0 0.0
12 王红真 中国科学院上海技术物理研究所 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
短波红外
延伸波长
InGaAs探测器材料
表面缺陷
分子束外延
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外
月刊
1672-8785
31-1304/TN
大16开
上海市玉田路500号
4-290
1980
chi
出版文献量(篇)
3030
总下载数(次)
11
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